Przygotowanie do polerowania wstępnego
Przed rozpoczęciem właściwego procesu polerowania należy wykonać kilka ważnych kroków przygotowawczych:
Czyszczenie
Dokładnie oczyść powierzchnie płytek, aby usunąć wszelkie pozostałości cząstek lub pozostałości środków chemicznych z wcześniejszych procesów, takich jak docieranie lub trawienie. Zanieczyszczenia mogą prowadzić do uszkodzeń powierzchni podczas polerowania. Zalecamy czyszczenie poprzez:
SC-1 czysty- Gorący wodorotlenek amonu, nadtlenek wodoru i woda w stosunku 1:1:5 w temperaturze 75 stopni przez 10 minut
SC-2 czysty- Gorący kwas solny, nadtlenek wodoru i woda w stosunku 1:1:6 w temperaturze 75 stopni przez 10 minut
Szybkie płukanie zrzutu (QDR)- Wiele kąpieli w przelewającej się wodzie DI przez 2-3 minut każda
Kontrola
Dokładnie sprawdź powierzchnie płytek po czyszczeniu, korzystając z trybu jasnego pola, aby sprawdzić:
Pozostałości cząstek lub plam
Wgłębienia, zadrapania lub uszkodzenia podpowierzchniowe powstałe w wyniku wcześniejszych procesów
Inne wady fizyczne, takie jak odpryski/pęknięcia krawędzi
Rozwiąż wszelkie problemy na tym etapie przed polerowaniem, aby uniknąć pogłębienia się defektów.
Zastosuj warstwę podkładową
Nałóż samoprzylepną warstwę podkładową na tylną stronę płytki, aby zapewnić równomierne podparcie podczas polerowania i zapobiec uszkodzeniu tylnej części płytki:
Nałóż 1-2 warstw kleju utwardzanego promieniami UV
Przed polerowaniem należy zapewnić całkowite utwardzenie
Tabela 1. Zalecane warstwy podkładowe
Materiał | Twardość | Grubość | Czas utwardzania |
---|---|---|---|
PU | Brzeg A 60 | 0,5 mm | 5 minut |
Solgel | Brzeg D 20 | 0,2 mm | 10 sek |
Sprzęt do polerowania
Kluczowe możliwości:
Zmienna prędkość obrotowa wrzeciona do 120 obr./min
Programowalna siła docisku/ciśnienie do 8 psi
Monitorowanie momentu obrotowego w czasie rzeczywistym
Automatyczne dozowanie/podawanie gnojowicy
Zintegrowane stacje czyszczenia popolerskiego
Etapy procesu polerowania
Główne etapy polerowania opisano poniżej:
Przygotuj/wygładź nakładkę polerską
Wybierz odpowiedni materiał podkładki (zobacz zalecenia później)
Kondycjonuj nowe klocki poprzez impregnację diamentową
Przed każdym uruchomieniem nałóż podkładkę diamentową w celu odświeżenia powierzchni
Góra Waflowa
Mocno przymocuj płytkę do uchwytu/nośnika płytek
Prawidłowo wycentrować płytkę, aby zapewnić równomierne polerowanie
Ustaw parametry procesu
Prędkość wrzeciona -30-60 obr./mintypowy
Ciśnienie -3-5 psitypowy
Szybkość podawania gnojowicy -100-250 ml/min
Czas trwania procesu — w zależności od wymaganego usuwania materiału
Rozpocznij cykl polerowania
Rozpocznij obrót wrzeciona
W sposób ciągły dozuj zawiesinę na środek podkładki
Opuść uchwyt do płytek i załącz podkładkę zgodnie z ustawionym ciśnieniem
Monitoruj moment obrotowy w trakcie całego procesu
Sprzątanie popolskie
Dokładne czyszczenie po polerowaniu ma kluczowe znaczenie dla usunięcia pozostałości i zminimalizowania defektów:
Pierwotnie czyste- Powierzchnie płytek wyszorować szczotką roztworami na bazie wodorotlenku amonu lub octanu
Wtórne czyste- Krótka kąpiel w HF lub innym roztworze kwasu w celu usunięcia pozostałości chemicznych
QDR - Wiele kąpieli przelewowych po 3-5 minut każda
Po oczyszczeniu sprawdź ponownie gotowe wafle. Przed przystąpieniem do kolejnych etapów procesu należy przerobić/wypolerować wszelkie niezbędne obszary.
Optymalizacja procesu polerowania płytek krzemowych
Istnieje kilka kluczowych parametrów, które można dostroić w celu optymalizacji procesu polerowania płytek:
Zastosowany docisk/ciśnienie
Wyższe ciśnienie zwiększa szybkość polerowania/usuwania materiału
Zbyt duży docisk prowadzi do zaokrągleń krawędzi, mikropęknięć
3-5 psi optymalne dla większości zastosowań
Prędkość obrotowa
Zwiększa temperaturę na styku pad-wafel
Wyższe prędkości zwiększają szybkość polerowania do pewnego stopnia
30-60 obr./minnadaje się do większości procesów wsadowych
Materiały podkładek
Wybór materiału podkładki wpływa na kluczowe czynniki, takie jak szybkość polerowania, wykończenie powierzchni i poziom defektów:
Tabela 2. Porównania materiałów podkładek
Podkładka | Twardość | Szybkość usuwania | Skończyć | Wady | Koszt |
---|---|---|---|---|---|
Poliuretan | Średni | Średni | Dobry | Niski | Niski |
Polimer/Pianka | Miękki | Bardzo wysoko | Surowy | Wysoki | Wysoki |
Włóknina | Średni | Niski | Doskonały | Bardzo niski | Wysoki |
Miękkie podkładki tną szybciej, ale nie są tak gładkie
Twarde podkładki wolniej polerują i zwiększają polerowanie
Procesy wieloetapowe, idealne przy użyciu twardszej podkładki końcowej
Optymalizacja gnojowicy
Równoważenie zawartości ścierniwa/chemii/pH/natężenia przepływu ma kluczowe znaczenie
Dostosuj formułę zawiesiny do zastosowania i materiału podkładki
Stale testuj i ulepszaj nasze zawiesiny, aby uzyskać optymalne wyniki
Analiza po polerowaniu
Ocena i analiza jakości płytek po polskim procesie jest niezbędna, aby zapewnić spełnienie specyfikacji i zidentyfikować ulepszenia procesu. Kluczowe analizy obejmują:
Chropowatość powierzchni
Zmierz dane Ra, RMS, PSD i HF
Monitoruj figurę/płaskość przy długich falach
Zidentyfikuj zadrapania, wgłębienia, cząsteczki, konieczne jest dodatkowe polerowanie
Grubość folii
Potwierdzić usunięcie warstw o wymaganej grubości
Sprawdź jednorodność grubości na powierzchni płytki
Poziomy zamglenia
Zmierz % zamglenia i rozkład
Zapewnij minimalne uszkodzenia powierzchniowe zgodnie ze specyfikacją zastosowania
Kontrola usterek
Użyj jasnego, ciemnego pola itp., aby odkryć pozostałe defekty
Porównaj poziomy/rodzaje defektów przed i po polerowaniu
Dane zwrotne umożliwiające dostosowanie podkładki, szlamu i parametrów
Nasze zintegrowane narzędzia metrologiczne zapewniają wszechstronne możliwości analityczne dla optymalnej kontroli procesu.
Wykończenie powierzchni
RaMożliwe < 1 angstrem
RMSTypowa specyfikacja < 2 angstremów
Minimalizuj mikrochropowatość poprzez optymalizację procesu
Całkowita zmienność grubości (TTV)
Łatwo osiągalna średnica TTV < 1 um na średnicy płytki
Możliwy TIR < 3 sekundy łuku przy dużej optyce
Wykazano jednorodność grubości poniżej nanometra
Gęstość defektów
Zero nanozarysowań dzięki kondycjonowaniu padów i optymalizacji podawania
< 5 defects/cm^2 over large areas
Wykrywanie i minimalizacja cząstek aż do<0.1 um
Skontaktuj się z naszym zespołem inżynierów, aby zapoznać się z Twoimi wymaganiami technicznymi, a my dostosujemy kompleksowy proces polerowania, aby spełnić nawet najbardziej rygorystyczne specyfikacje.